光电二极管
发布时间:2025-06-27 16:25:16 人气:7
光电二极管
专利类型:
发明授权
申请(专利)号:
CN202010090938.2
申请日:
2020-02-13
授权公告号:
CN111564510B
授权公告日:
2025-06-27
申请人:
地址:
法国克洛尔
发明人:
专辑:
工程科技Ⅱ辑
专题:
工业通用技术及设备
主分类号:
H10F77/14
分类号:
H10F77/14;H10F39/18
国省代码:
FR0ISCLL
页数:
14
代理机构:
北京市金杜律师事务所
代理人:
王茂华
优先权:
2019-02-14 FR 1901504
主权项:
1.一种光电二极管,包括:半导体衬底,所述半导体衬底包括第一掺杂剂类型的第一衬底层、以及在所述第一衬底层的顶部上的第二掺杂剂类型的第二衬底层;所述半导体衬底中的多个半导体壁;其中所述多个半导体壁包括:第一外半导体壁和第二外半导体壁,在第一方向上彼此平行延伸,所述第一外半导体壁和所述第二外半导体壁中的每个外半导体壁具有第一长度;和多个内半导体壁,在所述第一方向上彼此平行延伸,并且被定位在所述第一外半导体壁和所述第二外半导体壁之间,所述多个内半导体壁包括:第一内半导体壁,具有小于所述第一长度的第二长度;和第二内半导体壁和第三内半导体壁,各自具有小于所述第二长度的第三长度,其中所述第二内半导体壁被定位在所述第一外半导体壁和所述第一内半导体壁之间,并且其中所述第三内半导体壁被定位在所述第二外半导体壁和所述第一内半导体壁之间。
摘要:
本公开的各实施例涉及光电二极管。光电二极管包括第一掺杂剂类型的第一衬底层和在第一衬底层的顶部上的第二掺杂剂类型的第二衬底层。在包括第一衬底层和第二衬底层的半导体衬底中提供半导体壁。半导体壁包括:两个外半导体壁和定位在两个外半导体壁之间的至少一个内半导体壁。每个内半导体壁位于具有更长长度的两个半导体壁之间。
查看法律状态
相似专利
未找到相关数据
本领域科技成果与标准
科技成果
相关标准
未找到相关数据
研究与应用
本专利研制背景
本专利应用动态
所涉核心技术研究动态
期刊共4条
[1] 磷化物掺杂剂对钽阳极氧化膜组成及击穿特性的影响. 王向东;曹蓉江;宋显申;佟世昌.稀有金属,1991(02)
[2] 薄膜材料与器件. .中国光学与应用光学文摘,2001(05)
[3] 掺杂氧化铈粉末的制备和烧结. 黄虹,刘晋伟,黄金昌.稀有金属与硬质合金,2000(01)
[4] 不同掺杂剂对PEDOT∶PSS薄膜结构及其性能的影响. 王明晖;宗艳凤;史高飞;胡俊涛;吕国强.液晶与显示,2013(06)
硕博共7条
[1] 掺杂剂结构对聚3-己基噻吩热电性能的影响. 吴丽丽.中国科学院大学(中国科学院上海硅酸盐研究所),2021
[2] 基于掺杂制备高性能柔性有机场效应晶体管的研究. 李延军.北京化工大学,2024
[3] 磁控溅射制备六方氮化硼薄膜的掺杂及电学性质研究. 康允.吉林大学,2023
[4] 掺杂VO_2(M)粉体的制备及性能研究. 张堃.陕西理工大学,2021
[5] 立方氮化硼金半接触的特性研究及硅量子点的制备. 赵卫平.北京工业大学,2010
[6] 镧铝共掺氧化锌透明导电薄膜的制备及性能研究. 黄月霞.华东理工大学,2012
[7] CdPS_3薄膜的制备及其光电器件应用研究. 邹传凯.南华大学,2024
会议共2条
[1] 共掺杂剂Ga,Cr和Fe对Mn掺杂ZnO薄膜的影响. 范九萍;许小红.中国真空学会2012学术年会,2012
[2] 电容器级钽粉的磷化物掺杂. 王向东;毛襄萍;宋显申;李永刚;许文江.中国有色金属学会第三届学术会议,1997
